Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

Title in Spanish as published on TED.

Call for competition published on TED on 21 Jul 2026 by Rectorado de la Universitat Politècnica de València (Spain), CPV 31712110 Electronic integrated circuits and microassemblies.

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La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: 4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipo de litografía por haz de electrones que expone patrones en resistencias sensibles mediante un haz de electrones enfocado y escaneado. Escribe características con resolución nanométrica según diseño en archivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricación, especialmente para máscaras y estructuras en fotónica, semiconductores y nanotecnología. • UPV13 - SEM: Equipo de inspección de superficies mediante un haz de electrones enfocado que entrega imágenes de resolución nanométrica. Permite obtener información morfológica y de contraste superficial, así como contraste asociado a diferencias de composición o número atómico, en función de los detectores y modos de imagen disponibles. Dedicado a metrología, inspección y validación de proceso y control de calidad. La idoneidad del equipamiento se fundamenta en su capacidad para cubrir de forma conjunta los requisitos de patronaje y metrología dedicada necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidad permi

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