Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Title in Spanish as published on TED.

Call for competition published on TED on 9 Nov 2026 by Rectorado de la Universitat Politècnica de València (Spain), CPV 31712000 Microelectronic machinery and apparatus and microsystems. Tenders are accepted until 15 Nov 2026.

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Description

El equipo se destinará a la Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS) MICRONANOFABS, red española de salas blancas de micro y nanofabricación integrada en el Mapa Nacional de ICTS del Ministerio competente en materia de ciencia, de la que forma parte la Infraestructura de Micro y Nano Fabricación del Centro de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la Universitat Politècnica de València (UPV), junto con el Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) y la Central de Tecnología del ISOM (UPM). La instalación se ubicará en la Sala Blanca del edificio 8F del NTC-UPV. El Centro de Tecnología Nanofotónica desarrolla procesos de fabricación de dispositivos fotónicos integrados, biosensores, componentes de óptica integrada, dispositivos cuánticos, sistemas microelectromecánicos (MEMS), estructuras microfluídicas y sistemas nanofotónicos sobre una amplia variedad de materiales, incluyendo silicio, nitruro de silicio, vidrio, cuarzo, materiales III-V, materiales dieléctricos y estructuras híbridas. Como ICTS integrada en la red MICRONANOFABS, el NTC-UPV presta servicios de micro y nanofabricación a grupos de investigación nacionales e internacionales, así como a empresas, en el marco de proyectos competitivos, contratos de transferencia tecnológica y prestación de servicios avanzados. Esta condición de infraestructura singular de uso compartido obliga a mantener una dotación instrumental actualizada, robusta y de prestaciones acordes al estado del arte, que permita dar respuesta tanto a las líneas de investigación propias como a la demanda externa de la comunidad científica e ind

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